ICS11.040.01 CCS C 37 DB 62 甘肃 省地 方标准 DB62/T 5136—2025 碳离子治疗系统高电荷态ECR离子源 清洗维护技术规程 Technical code for cleaning and maintenance of high charge state ECR ion source in carbon ion therapy system 2025-08-28发布 2025-11-28实施 甘肃省市场监督管理局 发布 DB62/T5136—2025 目 次 前言 II 范围 2 规范性引用文件 3术语和定义 4 总体要求 5 程序确立 6 清洗与安装程序 7 过程记录 附录A（资料性） 离子源结构示意图 参考文献 10 DB62/T5136—2025 前言 本文件按照GB/T1.1一2020《标准化工作导则第1部分：标准化文件的结构和起草规则》的规定 起草。 请注意本文件的某些内容可能涉及专利。本文件的发布机构不承担识别专利的责任。 本文件由甘肃省药品监督管理局提出并监督实施。 本文件由甘肃省核与辐射技术及应用标准化技术委员会（GS/TC26）归口。 本文件起草单位：兰州泰基离子技术有限公司、中国科学院近代物理研究所。 本文件主要起草人：金刚、常志东、刘文洲、周利荣、杨春晓、白鹏、李朋、李家庆、曹云、张雪 珍。 本文件由兰州泰基离子技术有限公司负责解释。 II DB62/T5136—2025 碳离子治疗系统高电荷态ECR离子源 清洗维护技术规程 1范围 本文件确立了碳离子治疗系统高电荷态ECR离子源（以下简称“离子源”）的总体要求和清洗维护 程序，规定了关断电气设备、破除真空状态、断开硬件连接、拆卸离子源、清洗真空部件、安装离子源、 真空检漏、开机调试等阶段的操作指示，以及上述阶段之间的转换条件和结束条件，描述了相应的追溯 方法。 本文件适用于碳离子治疗系统离子源清洗维护的全过程，其他离子源清洗维护过程参照使用。 2规范性引用文件 下列文件中的内容通过文中的规范性引用而构成本文件必不可少的条款。其中，注日期的引用文件， 仅该日期对应的版本适用于本文件：不注日期的引用文件，其最新版本（包括所有的修改单）适用于本 文件。 JGJ80建筑施工高处作业安全技术规范 3术语和定义 下列术语和定义适用于本文件。 3. 1 地端隔离环 ground isolationring 用于阻挡散射到引出绝缘陶瓷上的束流，防止束流污染引出绝缘陶瓷而导致其绝缘性能变差的装 置。 3. 2 等离子体腔室plasmachamber 离子源中产生等离子体的区域。 [来源：GB/T40618—2021，5.3.2.8] 3. 3 进气组件gas feedingunit 用于离子源气体流量调节的装置。 3.4 离子源ionsource 以一定方式将中性原子或分子电离产生离子束流的装置。 [来源：GB/T40618—2021，5.3.2.1] 3.5 离子源磁体 ion sourcemagnet 用于约束等离子体并提供共振磁场条件的磁性装置。 1 DB62/T5136—2025 3.6 离子源清洗ion sourcecleaning 对离子源进行拆卸、清洗及恢复的处理过程。 3.7 离子源注入端 ion source infection region 用于微波传输、气体注入及偏压加载，位于离子源磁体前端。 3.8 离子源引出端 ion source extraction region 用于离子引出，位于离子源磁体后端。 3. 9 引出泵室extractionpumpchamber 用于维持离子源真空环境的结构部件。 3.10 引出电极（离子源）plasmaelectrode（ionsource） 离子源内引出离子的高压电极。 [来源：GB/T40618—2021，5.3.2.9] 3.11 引出绝缘陶瓷 extractioninsulationceramic 离子源束流引出路径中的电气绝缘部件，用于保持真空密封性能，同时提供离子源磁体与引出泵室 之间的高压隔离。 3.12 绝缘拉杆highvoltage insulation rod 用于固定引出绝缘陶瓷的绝缘部件。 3.13 束流beam 动能基本相同、运动方向基本一致的粒子束集群。 ［来源：GB/T40618—2021，4.3.7] 3.14 束流强度 beam intensity 单位时间内通过某截面的带电粒子电荷总量。 [来源：GB/T34128—2017，3.3] 3.15 微波烘烤 microwavebaking 通过微波产生等离子体，依靠等离子体烘烤真空部件除气的过程 3.16 吸极puller 离子源引出时，一般紧邻等离子体弧室，用以引出、聚焦离子束的电极。 [来源：GB/T40618—2021，5.3.2.26] 3.17 移动绝缘支撑 movable insulation support 用于辅助离子源拆装，同时提供离子源磁体与支架之间的高压隔离的装置 3.18 注入组件 injectioncomponent 2 DB62/T5136—2025 用于提供微波传输、气体注入及偏压加载接口的装置 4总体要求 4.1清洗条件 出现以下情况之一时，应对离子源进行清洗： a）离子源待机真空度大于或等于5×107mbar； b）离子源放电打火次数大于或等于5次/小时。 4.2作业环境 清洗作业环境应满足以下要求： a）环境温度：10℃～30℃; b）环境湿度：小于或等于65%（无凝结）。 4.3人员 作业人员应满足以下要求： a）参加离子源清洗操作培训，并通过培训考核； b）掌握真空检漏技能，能熟练使用氨质谱检漏仪等设备。 4.4设备及工具 4.4.1测量仪器 测量仪器精度应满足以下要求： b) 万用表：电阻测量范围大于或等于40MQ； c）直尺：非铁磁性材料。 4.4.2 2专用设备/工具 防爆双头扳手、防爆内六角扳手、高压放电棒、热风枪（烘烤箱）、喷砂设备、超声波清洗设备等 4.5耗材 无水乙醇（纯度大于或等于99.5%）、无尘布（Class100）、金相砂纸（280目）、白刚玉（320目）、 铝箔纸（纯度大于或等于99.0%）、无尘手套（Class100）、氢气（纯度大于或等于99.999%）、氮气 （纯度大于或等于99.999%）、甲烷（纯度大于或等于99.999%）等。 4.6注意事项 离子源清洗过程中注意以下内容： a）真空部件拆卸、安装作业时，应佩戴洁净的无尘手套： b) 清洗前应确认高压、微波设备断电，防止高压触电与微波辐射伤害； c) 对离子源磁体作业时应预防强磁场带来的安全风险，应做好防护措施并使用非铁磁性工具作 业； (P 高处作业时，应符合JGJ80的规定。 3