(19)国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告 号 (45)授权公告日 (21)申请 号 202222214247.6 (22)申请日 2022.08.23 (73)专利权人 江西维易科半导体科技有限公司 地址 334000 江西省上饶市广丰区上饶高 新区霞峰电子信息产业园 专利权人 江西维易尔半导体设备有限公司 (72)发明人 刘娥慧　刘雍文　 (74)专利代理 机构 深圳市智旭鼎浩知识产权代 理事务所(普通 合伙) 44746 专利代理师 张玲霞 (51)Int.Cl. B08B 1/00(2006.01) (54)实用新型名称 一种匀胶显 影机表面清洗装置 (57)摘要 本实用新型涉及匀胶显影机清洗技术领域， 具体涉及一种匀胶显影机表面清洗装置。 本实用 新型提供一种具有清洗高效且工人劳动强度小 的匀胶显影机表面清洗装置。 本实用新型提供了 这样一种匀胶显影机表面清洗装置， 包括有显影 机壳体、 储液箱和挡板等； 显影机壳体顶部设置 有用于储存清洗液的储液箱， 显影机壳体顶部沿 其周向设置有与之适配的用于将清洗液阻挡在 储液箱内的挡板。 通过拉杆带动接触杆向下移 动， 接触杆挤压连接杆使其远离擦拭棉， 由此解 除对擦拭棉的限位作用， 擦拭棉一侧便沿着导杆 向下滑动， 由此实现对显影机壳体表 面进行高效 清洗。 权利要求书1页 说明书3页 附图6页 CN 218133463 U 2022.12.27 CN 218133463 U 1.一种匀胶显影机表面清洗装置， 包括有显影机壳体(1)和储液箱(3)， 显影机壳体(1) 顶部设置有用于储存清洗液的储 液箱(3)， 其特征在于， 还包括有挡板(4)、 第一弹簧(5)、 拉 杆(6)和清洗机构， 显影机壳体(1)顶部沿其周向设置有与之适配的用于将清洗液阻挡在 储 液箱(3)内的挡板(4)， 挡板(4)底部均匀间隔地连接有第一弹簧(5)， 第一弹簧(5)远离挡板 (4)的一端与储 液箱(3)内壁连接， 挡板(4)底部对称的两端对称地连接有拉杆(6)， 拉杆(6) 贯穿储液箱(3)且与之滑动连接， 显影机壳体(1)外壁上设有用于清洗显影机壳体(1)表面 的清洗机构。 2.根据权利要求1所述的一种匀胶显影机表面清洗装置， 其特征在于， 所述清洗机构包 括有接触杆(7)、 滑轨(8)、 连接杆(9)、 擦拭棉(11)和导杆(12)， 显影机壳体(1)外部对称的 两侧设有与显影机壳体(1)高度一致导杆(12)， 导杆(12)上共同滑动式连接有与显影机壳 体(1)适配的擦拭棉(11)， 擦拭棉(11)沿显影机壳体(1)周向设置并与显影机壳体(1)的周 向外壁接触， 显影机壳体(1)对称 两侧的上部设置有与导杆(12)平行的滑轨(8)， 滑轨(8)内 滑动式连接有用于对擦拭棉(11)进行限位的连接杆(9)， 拉杆(6)上部安装有接触杆(7)， 接 触杆(7)远离拉杆(6)的一侧与连接杆(9)接触 配合。 3.根据权利要求2所述的一种匀胶显影机表面清洗装置， 其特征在于， 还包括有第 二弹 簧(10)， 连接杆(9)与滑轨(8)之间连接有用于对连接杆(9)进行限位作用的第二弹簧(10)。 4.根据权利要求3所述的一种匀胶显影机表面清洗装置， 其特征在于， 还包括有第 三弹 簧(13)， 擦拭棉(1 1)与导杆(12)底部之间连接有第三弹簧(13)。 5.根据权利要求4所述的一种匀胶显影机表面清洗装置， 其特征在于， 还包括有滑轮 (14)和拉绳(15)， 显影机壳体(1)靠近滑轨(8)设置有滑轮(14)， 擦拭棉(11)上连接有拉绳 (15)， 拉绳(15)绕设在滑轮(14)上。 6.根据权利要求5所述的一种匀胶显影机表面清洗装置， 其特征在于， 还包括有支撑板 (16)、 绕线轮(17)和摇杆(18)， 显影机壳体(1)下部设置有支撑板(16)， 支撑板(16)上转动 式连接有绕线轮(17)， 绕线轮(17)远离擦拭棉(11)的一端与绕线轮(17)连接， 绕线轮(17) 的一侧连接有用于给绕线轮(17)施加转动作用力的摇杆(18)。 7.根据权利要求6所述的一种匀胶显影机表面清洗装置， 其特征在于， 还包括有集水池 (2)， 显影机壳体(1)底部沿其周向设置有用于收集清洗后液体的集水池(2)。权　利　要　求　书 1/1 页 2 CN 218133463 U 2一种匀胶显影机表面清洗装 置 技术领域 [0001]本实用新型涉及匀胶显影机清洗技术领域， 具体涉及一种匀胶显影机表面清洗装 置。 背景技术 [0002]匀胶显影机是完成除曝光以外 的所有光刻工艺的设备， 包括光刻材料的涂布、 烘 烤、 显影、 晶圆背面的清洗以及用于浸没式工艺的晶圆表面的去离子水冲洗等； 匀胶显影机 在长期的使用中， 其表面会粘附一定的胶水和灰尘等， 因此， 需要对其表面进 行定期的清洗 作业。 [0003]目前， 对匀胶显影机表面的清洗大部分是人工使用抹布或清洗刷对其脏污进行刮 除， 然后使用清洗液体进行清洗， 这种作业方式存在效率较下、 工人劳动强度大的缺陷。 [0004]因此， 需要设计一种具有高效清洁功能的匀胶显影机表面清洗装置 。 实用新型内容 [0005]本实用新型为了克服现有技术采用人工对显影机表面进行清洗存在效率低下、 工 人劳动强度大的缺点， 本实用新型要解决 的技术问题是提供一种具有清洗高效且工人劳动 强度小的匀胶显影机表面清洗装置 。 [0006]为了解决上述技术问题， 本实用新型提供了这样一种匀胶显影机表面清洗装置， 包括有显影机壳体、 储液箱、 挡板、 第一弹簧和拉杆， 显影机壳体顶部设置有用于储存清洗 液的储液箱， 显影机壳体顶部沿其周向设置有与之适配的用于将清洗液阻挡在 储液箱内的 挡板， 挡板底部均匀间隔地连接有第一弹簧， 第一弹簧远离挡板的一端与储液箱内壁连接， 挡板底部对称的两端对称地连接有拉杆， 拉杆贯穿储液箱且与之滑动连接， 显影机壳体外 壁上设有用于清洗 显影机壳体表面的清洗 机构。 [0007]优选地， 所述清洗机构包括有接触杆、 滑轨、 连接杆、 擦拭棉和导杆， 显影机壳体外 部对称的两侧设有与显影机壳体高度一致导杆， 导杆上共同滑动式连接有与显影机壳体适 配的擦拭棉， 擦拭棉 沿显影机壳体周向设置并与显影机壳体的周向外壁接触， 显影机壳体 对称两侧的上部设置有与导杆平行的滑轨， 滑轨内滑动式连接有用于对擦拭棉进 行限位的 连接杆， 拉杆 上部安装有接触杆， 接触杆远离拉杆的一侧与连接杆接触 配合。 [0008]优选地， 还包括有第二弹簧， 连接杆与滑轨之间连接有用于对连接杆进行限位作 用的第二弹簧。 [0009]优选地， 还 包括有第三弹簧， 擦拭棉与导杆底部之间连接有第三弹簧。 [0010]优选地， 还包括有滑轮和拉绳， 显影机壳体靠近滑轨设置有滑轮， 擦拭棉上连接有 拉绳， 拉绳绕设在滑轮上。 [0011]优选地， 还包括有支撑板、 绕线轮和摇杆， 显影机壳体下部设置有支撑板， 支撑板 上转动式连接有绕线轮， 绕线轮远离擦拭棉的一端与绕线轮连接， 绕线轮的一侧连接有用 于给绕线轮施加转动作用力的摇杆。说　明　书 1/3 页 3 CN 218133463 U 3