(19)国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告 号 (45)授权公告日 (21)申请 号 202221293185.6 (22)申请日 2022.05.26 (73)专利权人 聚时领臻科技 （浙江） 有限公司 地址 310000 浙江省杭州市拱 墅区祥园路 88号4幢1305室 (72)发明人 吴昌力　郑军　 (74)专利代理 机构 武汉天领众智专利代理事务 所(普通合伙) 42300 专利代理师 王能德 (51)Int.Cl. G01N 21/01(2006.01) G01N 21/95(2006.01) (54)实用新型名称 一种引线框架检测用光源机构 (57)摘要 本实用新型提供引线框架检测用光源机构， 包括： 罩体， 所述罩体上开 设有光通道； 图像生成 装置， 所述图像生成装置安装于所述罩体外部； 反射镜， 所述反射镜安装于所述图像生成装置的 下方并位于所述罩体外部； 可调节遮光板， 所述 可调节遮光板活动安装于所述罩体上； 第一光 源， 所述第一光源安装于所述罩体的下方； 第二 光源， 所述第二光源安装于所述罩体的下方并与 所述第一光源对称设置； 分光镜， 所述分光镜安 装于罩体内； 所述第一光源和第二光源的光线照 射至引线框架上， 所述分光镜用于改变第一光源 和第二光源照射至引线框架后的光线的照射角 度和方向使第一光源和第二光源产生的光线照 射至所述反射镜上， 所述反射镜再将光线反射至 图像生成装置上。 权利要求书1页 说明书4页 附图5页 CN 217766039 U 2022.11.08 CN 217766039 U 1.一种引线框架检测用光源机构， 其特 征在于， 包括： 罩体(1)， 所述 罩体(1)上开设有光 通道； 图像生成装置(2)， 所述图像生成装置(2)安装于所述 罩体(1)外 部； 反射镜(3)， 所述反射镜(3)安装于所述图像生成装置(2)的下方并位于所述罩体(1)外 部； 可调节遮光板(4)， 所述可调节遮光板(4)活动安装于所述 罩体(1)上； 第一光源(5)， 所述第一 光源(5)安装于所述 罩体(1)的下 方； 第二光源(6)， 所述第二光源(6)安装于所述罩体(1)的下方并与所述第一光源(5)对称 设置； 分光镜(7)， 所述分光镜(7)安装于所述 罩体(1)内； 所述第一光源(5)和第二光源(6)的光线照射至引 线框架上， 所述分光镜(7)用于改变 第一光源(5)和第二光源(6)照射至引线框架后的光线的照射角度和方向使第一光源(5)和 第二光源(6)产生的光线照射至所述反射镜(3)上， 所述反射镜(3)再将光线反射至所述图 像生成装置(2)上。 2.如权利要求1所述的引线框架检测用光源机构， 其中特征在于， 所述罩体(1)的内壁 具有弧面， 所述分光镜(7)安装于所述 罩体(1)的弧面内。 3.如权利要求2所述的引线框架检测用光源机构， 其中特征在于， 所述可调节遮光板 (4)的数量 为两个， 两个可调节遮光板(4)活动且 对称设置 于所述弧面的两端。 4.如权利要求3所述的引线框架检测用光源机构， 其中特征在于， 每个可调节遮光板 (4)通过运动组件(8)活动安装于所述弧面上。 5.如权利要求4所述的引线框架检测用光源机构， 其中特征在于， 所述运动组件(8)包 括安装托块(81)、 丝杆(82)以及操作盘(83)； 所述安装托块(81)活动安装于所述弧面上， 所 述丝杆(82)穿过所述罩体(1)与所述安装托块(81)连接， 所述可调节遮光板(4)与所述安装 托块(81)连接， 所述操作盘(83)连接 于所述丝杆(82)的一端并位于所述 罩体(1)外 。 6.如权利要求5所述的引线框架检测用光源机构， 其中特征在于， 所述安装托块(81)上 设置有第三 光源(811)。 7.如权利要求5所述的引线框架检测用光源机构， 其中特征在于， 所述操作盘(83)上设 置有手柄(84)。 8.如权利要求5所述的引线框架检测用光源机构， 其中特征在于， 所述可调节遮光板 (4)与安装托 块(81)之间安装有滑动组件(9)。 9.如权利要求8所述的引线框架检测用光源机构， 其中特征在于， 所述滑动组件(9)包 括导轨(91)及滑动连接于所述导轨(91)上的滑片(92)， 所述导轨(91)安装于所述可调节遮 光板(4)上， 所述滑片(9 2)安装于所述 安装托块(81)上。权　利　要　求　书 1/1 页 2 CN 217766039 U 2一种引线框架检测用光源机构 【技术领域】 [0001]本实用新型 涉及视觉检测技 术领域， 尤其涉及一种引线框架检测用光源机构。 【背景技术】 [0002]引线框架作为芯片的载体， 是集成电路中重要的组成部分。 不仅种类繁多， 而且结 构上差异很大， 主要有用模具冲压法和化学刻蚀法两种生产工艺。 生产过程中会造成过蚀、 变形、 漏银、 脏污、 划伤、 刮花、 连脚等缺陷， 严重的将 影响产品性能， 直接造成后道封装芯片 的质量， 导 致一系列制成工艺的生产资源浪费。 [0003]近几年半导体行业集中爆发， 产能翻倍， 引线框架的市场需求也随之剧增。 面对如 此庞大的市场需求， 质量管控尤其重要， 目前人工目检的效率远远达不到生产需求， 大量增 加检测人员又造成巨大 的人力成本投， 因此， 引线框架的自动光学检测对于引线框架的生 产销售企业 来说十分重要。 [0004]而由于引线框架产品的特性， 其主要的组成部分是铜和银， 不 同的产品表面铜和 银的色泽、 粗糙度都不尽相同， 此类产品表面缺陷检测的需求为： 将物料表面的铜和银明显 区分、 能兼容不同尺寸及规格的产品， 保证不同产品打光的一致性， 得到对比度明显、 缺陷 特征清晰的图像， 同时须过滤掉表面粗糙的纹理以降低对缺陷的误检。 现有国内外的引线 框架AOI检测设备成像打光方式单一且兼容性差， 难以同时兼顾缺陷呈现和表面纹理过滤 的双重需求， 导 致设备过检漏检 较多， 检完后还需要大量人工复判， 无法满足生产需要。 [0005]鉴于此， 实有必要提供一种新型的引线框架检测用光源机构以克服上述 缺陷。 【实用新型内容】 [0006]本实用新型的目的是提供一种引线框架检测用光源机构， 能够使得照射在被测引 线框架上 的缺陷特征呈现出来， 同时把物料表面的纹理特征过滤掉的目的， 得到很好的成 像效果。 [0007]为了实现上述目的， 本实用新型提供一种引线框架检测用光源机构， 包括： [0008]罩体， 所述 罩体上开设有光 通道； [0009]图像生成装置， 所述图像生成装置安装于所述 罩体外部； [0010]反射镜， 所述反射镜安装于所述图像生成装置的下 方并位于所述 罩体外部； [0011]可调节遮光板， 所述可调节遮光板活动安装于所述 罩体上； [0012]第一光源， 所述第一 光源安装于所述 罩体的下 方； [0013]第二光源， 所述第二 光源安装于所述 罩体的下 方并与所述第一 光源对称设置； [0014]分光镜， 所述分光镜安装于所述 罩体内； [0015]所述第一光源和第二光源的光线照射至引线框架上， 所述分光镜用于改变第一光 源和第二光源照射至引线框架后的光线的照射角度和方向使第一光源和第二光源产生的 光线照射至所述反射镜上， 所述反射镜再将光线反射至所述图像生成装置上以进 行视觉检 测。说　明　书 1/4 页 3 CN 217766039 U 3